バッファードフッ酸(buffered hydrofluoric acid)

フッ化水素酸(HF)とフッ化アンモニウム溶液(NH4F)の混合水溶液。

半導体製造プロセスにおいて、SiO2のエッチングに用いられる。HF濃度とNH4Fを調整することで数十Å/min~数千Å/minの幅広いエッチングレートを持つ薬液が調整可能。

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