イオン注入

半導体のイオン注入とは？原理と装置構成

イオン注入とは？ イオン注入は「不純物をイオン化し、高電圧で加速することでウェーハに注入する方法」です。デバイスの作成にはp型・n型領域を詳細に作り分ける必要があるため、不純物の精密な導入が非常に重要です。 不純物導入法 […]