半導体のアニール工程:装置の種類と特徴
2022年2月26日
半導体の熱処理 シリコンウェーハに高速・高エネルギーの不純物が打ち込まれると、Si結晶構造が崩れ非晶質化します。非晶質化すると電子・正孔の移動度が落ちデバイスの性能が低下してしまいます。また、イオン注入後の不純物も格子間 […]
半導体の熱処理 シリコンウェーハに高速・高エネルギーの不純物が打ち込まれると、Si結晶構造が崩れ非晶質化します。非晶質化すると電子・正孔の移動度が落ちデバイスの性能が低下してしまいます。また、イオン注入後の不純物も格子間 […]