半導体製造の流れ3

酸化膜・窒化膜・フォトレジストが付いたチップ状のシリコンです。

利用規約

利用規約を確認する

商用利用

当イラストの商用利用はスポンサー制度の会員特典です。詳しくはスポンサー制度ページからお問い合わせください。

この画像の解説

半導体の製造工程

同じグループのイラスト

半導体製造の流れ27

シリコンウェーハ(酸化膜付き)

半導体製造の流れ13

SOIウェーハ

半導体製造の流れ25

半導体製造の流れ12

キーワード

シリコン　酸化膜　窒化膜　レジスト　4層　スクエア　Si　チップ