オートドーピング(auto-doping)

2022年12月29日 最終更新日時 : 2023年4月28日 semi-journal
オートドーピング

加熱基板中のドーパントが外方拡散により気相に放出され、エピ層中に再度取り込まれる現象。

エピ層中の抵抗率・抵抗率面内分布が悪化することから問題となる。

エピタキシャル成長の原理：Siのエピ成長

半導体の外方拡散・内方拡散

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